Ronney maska nawilżająca do włosów suchych i zniszczonych kwas hialuronowy to produkt kosmetyczny, którego składniki doskonale nawilżają i odbudowują zniszczone i suche włosy.
Aqua, Cetearyl Alcohol, Cetrimonium Chloride, Sodium Hyaluronate, Dmdm Hydantoin, Parfum, Glyceryl Stearate, Cyclopentasiloxane, Dimethicone, Ethylhexyl Palmitate, Citric Acid.
Kwas hialuronowy nawilża i odbudowuje zniszczone i suche włosy.
Maska nawilżająca do włosów suchych i zniszczonych.
Maskę należy nałożyć na wilgotne włosy, pozostawić na około 5 minut a następnie obficie spłukać włosy.
Producent
Postać
W celu zadania pytania o produkt prosimy o wysłanie wiadomości e-mail na adres bok@drogeriawapteka.pl. Dziękujemy